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硝酸铈铵为电路板及铬掩模板蚀刻液的原料，在半导体器件制作中光罩是常用工具，光刻、蚀刻技术应用于光敏感胶，硝酸铈铵作为一种聚合可溶解物被涂在金属衬底，或玻璃表面，然后光刻胶烘焙除去溶剂，再将其电子束或激光光束曝光，然后光进行化学处理，如显影蚀刻等工艺。
刻蚀液和铬膜反应用工业氧化剂can硝酸铈铵，蚀刻剂（液）进行刻蚀后板材蚀刻线质量好，线性较好且均匀，效果非常好
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